炭化ケイ素プレート

炭化ケイ素プレートの説明

Silicon carbide plates are key for high-temp industries, semiconductors & new energy, with advantages like heat/wear resistance, light weight & corrosion resistance. They replace traditional refractories to boost efficiency, meet precision needs, and are basics for industrial upgrades.

ケルイ炭化ケイ素プレート仕様

項目 SiO₂-SiC SiSiC/RBSiC R-SiC Si3N4-SiC
SiC % >85 90~92 >99 ≥75
密度 g/cm3 2.65~2.75 >3.02 2.65~2.75 2.65~2.85
気孔率 % 15~16 <0.1 15-18 13-15
曲げ強さ (20℃)Mpa 90~100 260 80~100 160-180
曲げ強さ(1200℃)Mpa 100~110 280 90~110 170-180
圧縮強さ (20℃)Mpa ≥300 900 ≥300 580
硬度 Kg/mm2 1800~2000 2400 1800~2000 2000-3000
熱伝導率 (1200℃)w.m-1.k-1 35~36 45 36 19.6
熱膨張係数(1200℃) 4.6 4.5 4.6 4.7
最高使用温度 1500 1380 1650 1550

炭化ケイ素板の一般的なサイズと種類

  • 仕様300*300*10mm、400*400*15mm、500*500*20mmなど。
  • 形:正方形、円形、長方形など
  • 厚さオプション:極薄板(5mm以下など)、標準厚板(5~20mm)、厚板(20mm以上)など。
  • 穴の種類ソリッドプレート、丸穴付きプレート、四角穴付きプレート、グリッドパターンなど。
  • エッジデザイン:ストレートエッジ・プレート、面取りプレート、ラウンドエッジ・プレートなど。
  • 表面の特徴:滑らかな平らなプレート、テクスチャ加工または滑り止め加工が施されたプレート。

炭化ケイ素プレートの特徴

炭化ケイ素板は高温耐性(1400℃以上)、高硬度と耐摩耗性、低熱伝導率と軽量、強い化学安定性と優れた熱衝撃安定性を持っています。高温、耐食、耐摩耗シーンに適しており、その性能は従来の材料よりも優れています。

炭化ケイ素プレートの用途

炭化ケイ素プレートは、主に工業用キルン(炉内張り、焼鈍炉など)、半導体(CVD装置キャリアプレート)、太陽光発電(高温拡散炉部品)、鉱業・化学工業(耐摩耗性・耐腐食性ライニング/ポンプボディ)、新エネルギー(リチウム電池焼結、水素エネルギー装置用耐高温部品)、極限精密製造シーンで使用されています。

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